保护光刻工艺：监测空气和液体颗粒污染的重要性

产品良率降低：晶圆表面的微小颗粒会破坏沉积和蚀刻过程，导致电路图案出现缺陷。这反过来又会导致每个晶圆的可用芯片数量减少，最终降低整体产品良率。

增加缺陷密度：颗粒的存在会导致电路图案中的随机缺陷，从而导致最终产品中的缺陷密度更高。这不仅会影响您的产品质量，还会增加客户退货的可能性。

代价高昂的返工和报废：受污染的晶圆通常需要返工，或者在某些情况下需要完全报废。这会产生额外的制造成本并浪费宝贵的资源。

设备停机时间：颗粒污染也会影响光刻设备的性能。受污染的化学品、气体或水系统可能导致设备故障和计划外停机，进一步阻碍生产力和盈利能力。

设备停机时间：颗粒污染也会影响光刻设备的性能。受污染的化学品、气体或水系统可能导致设备故障和计划外停机，进一步阻碍生产力和盈利能力。

早期发现和预警： RTMS可以快速标记并发出任何异常环境条件的警报，例如高颗粒计数或湿度水平。这使操作员能够立即采取行动并调查污染的根本原因。

过程监控：RTMS允许对关键工艺位置进行连续监控，包括库存器、工具负载锁和晶圆检测区域。通过密切关注这些区域，可以迅速识别和解决任何偏离所需清洁度水平的问题。

趋势分析：RTMS提供有价值的洁净室性能趋势分析，能够主动识别污染问题。通过分析一段时间内的数据，可以识别模式和相关性，从而产生早期预警和预防措施。

过滤器性能监控：RTMS确保HEPA和ULPA过滤器的高效性能，保证向关键工艺区域供应清洁空气。任何过滤器效率或泄漏问题都可以及时检测和纠正，防止进一步污染。